DPM100双棱镜超宽连续光谱单色仪的出现，成功打破了传统单色仪在光谱范围和杂散光方面的局限，为光谱学技术的应用带来明显提升。它覆盖0.4-7.3 eV的超宽光谱，可连续测量从红外到深紫外波段，杂散光抑制能力达8个数量级，还具备高分辨率与高效测量的优势。

破茧而出|DPM100双棱镜超宽连续光谱单色仪

在材料科学前沿，光谱学技术-包括这对表面光电压（SPV）、光电流谱（PCS）、光电子发射谱(PES)、光学透射谱（OTS）等-正逐渐成为检测半导体缺陷态的新标准。然而，传统单色仪受限于光谱范围和杂散光干扰，难以实现连续、高精度的测量，这在一定程度上制约了相关技术的应用潜力。现在，这一局限已被突破：由Helmholtz-Zentrum团队（柏林）联合Freiberg Instruments公司开发的DPM100双棱镜超宽连续光谱单色仪，凭借170 - 3100nm的超宽光谱范围和8个数量级的杂散光抑制优势，为光谱学应用，尤其是表面光电压（Surface Photovoltage，SPV）技术，开辟了全新维度。

新品介绍 ： 

传统光学系统常依赖反射镜改变光路，但反射镜需精密校准且易受振动影响。而DPM100是一款基于无镜熔融石英双棱镜框架设计的单色仪，通过棱镜的全内反射特性直接实现光路转折，减少外部反射镜的使用。实现从近红外（0.4 eV）到深紫外（7.3 eV）的连续测量，如图1所示。其重要创新在于光学导轨引导的双棱镜旋转系统和自适应焦距透镜设计，确保光谱分辨率达meV级（如UV区域分辨率低至7 meV）。这款紧凑型仪器专为高灵敏度光电测量优化，是SPV等应用的理想光源。

图1：DPM100超宽连续光谱单色仪概念设计，双棱镜结构实现宽光谱连续覆盖

产品概述：

DPM100的出现，成功打破了传统单色仪在光谱范围和杂散光方面的局限，为光谱学技术的应用带来明显提升。它覆盖0.4-7.3 eV的超宽光谱，可连续测量从红外到深紫外波段，杂散光抑制能力达8个数量级，还具备高分辨率与高效测量的优势。这对表面光电压、光激发瞬态电流谱、紫外线光电子谱、光致发光光谱等光谱学技术而言，都是强有力的支撑，尤其在SPV技术中表现突出，能更好地满足半导体缺陷态检测等场景的需求，为这些光谱学应用的深入开展提供了实用且可靠的工具。

产品优势 ：

一、超宽连续光谱        

覆盖材料带隙0.4-7.3 eV（对应波长范围：3100-170 nm），无缝支持从红外到深紫外的全波段光谱测量，无需切换光栅或滤波器，如图2所示。该构造可避免切换光栅造成的光谱断层，传统设备在紫外-可见光交接处误差可达。超宽的能谱范围可适配SiC（3.3eV）、GaO（4.8eV）以及金刚石（5.5eV）等超宽禁带材料的缺陷全谱分析。

图2：单色仪全波段输出连续光谱（0.4-7.3 eV）与强度关系

二、无镜熔融石英双棱镜架构

匹配氮气吹扫，消除反射镜镀膜损伤导致的深紫外衰减，该设计保障170-3100 nm全波段能量稳定性> 95%，而传统设备在小于250 nm波段光谱损失会超过60%。

三、高级杂散光抑制能力

超过8个数量级的抑制能力（实测杂散光低至100 fA），确保光谱信号纯净，精确检测微弱缺陷态。

四、高灵敏度与效率

搭配210 dB宽范围探测器（专*技术DE102023003991.8），可测量fA-级微弱电流，单点测量时间只需1-7秒，大幅提升实验效率。